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其主要特点有: 能够提高等离子体稳定性和工艺可重复性 能够精密控制射频功率 能够快速响应等离子体变化 能够易于调整满足特定应用需求
01 尺寸外形 02 工作框图 该设备中的功放模块产生高频电压、电流,将常规使用的208V电压和频率50/60HZ转换为可变的13.56MHZ电压电流。 03 设备应用 (一)半导体制造 在半导体芯片的刻蚀、沉积、离子注入等关键工艺环节,SRF3000凭借其精准的频率和功率控制、高效的集成匹配以及稳定的性能,为芯片制造提供稳定可靠的等离子体电源解决方案,助力提升芯片制造的精度和良品率。 (二)平板显示生产 在平板显示面板的制造过程中,如 TFT - LCD、OLED 等工艺,SRF3000可满足不同工艺阶段对射频电源的需求,确保薄膜沉积均匀、刻蚀精准,提升面板的显示质量和生产效率。 (三)光伏产业 在光伏电池的生产中,无论是硅片的刻蚀、薄膜的沉积还是电池的钝化等工艺,SRF3000都能以其卓越的性能为光伏电池的生产提供稳定的能量供应,助力提高光伏电池的转换效率和生产质量。 04 产品优势 (一)精准频率控制 稳定基准频率:具备 13.56 MHz±.005% 的精准频率输出,为等离子体工艺提供稳定可靠的基础条件,确保每一次工艺过程的一致性。 灵活频率调谐:支持频率调谐范围为±5%,可根据不同工艺需求进行灵活调整,无论是精细的刻蚀工艺还是均匀的沉积过程,都能精准适配。 (二)卓越功率性能 宽功率调节范围:功率覆盖30W - 3000W,满足从实验室研发到大规模工业生产的多样化功率需求。 高精度功率调节:功率可调精度达到 0.1 瓦,实现对功率的精细控制,保证工艺过程的稳定性和可重复性。 双级脉冲功能:支持双级脉冲功能,可灵活设置脉冲的频率、占空比等参数,满足不同工艺对脉冲特性的严格要求,为复杂工艺提供更多可能性。 (三)高效集成匹配 一体化架构:采用一体化集成匹配架构,实现亚毫秒级快速动态响应能力。在负载阻抗发生变化时,能迅速做出调整,确保射频能量高效传输,减少能量损耗。 全数字控制:运用全数字控制技术,通过高精度 ADC 实时采集反射功率、正向功率等关键数据,由数字信号处理器(DSP)进行快速运算与控制,提升匹配精度和系统稳定性。 (四)便捷控制方式 丰富通信接口:配备RS - 232、用户端口、以太网等接口,方便与其他设备进行通信和集成控制。无论是本地操作还是远程监控,都能轻松实现,满足现代化生产的智能化管理需求。 远程操作功能:可实现远程监控、参数设置和数据传输等功能,让您坐在办公室就能对生产线上的设备进行实时管理和调整,提高生产效率。 (五)全方位保护机制 多重保护功能:拥有完善的过流保护、过压保护、过热保护等机制,在设备运行出现异常情况时,能迅速启动保护措施,有效保护设备不受损坏,确保系统长期稳定运行。 (六)同步运行保障 相位同步功能:具有相位同步功能,可实现多个系统在集群配置中的同步运行,确保工艺的一致性和稳定性,尤其适用于大规模生产场景下对工艺精度的严格要求。 (七)先进弧管理 高效电弧处理:先进的弧管理功能,能够快速检测和处理等离子体中的电弧现象,减少电弧对工艺的影响,提高工艺的重复性和产品质量,降低次品率。 (八)友好操作界面 兼容操作体验:完全兼容AE VFP,支持中英文界面,无论是国内还是国外的操作人员,都能轻松上手,减少操作培训成本,提高工作效率。 05 技术参数


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